瓷磚(zhuan)拋(pao)光(guang)(guang)機(ji)(ji)(ji)，是(shi)近年來結合市(shi)場上各(ge)種(zhong)型(xing)號的(de)圓弧(hu)機(ji)(ji)(ji)優缺點而改進(jin)設(she)計生(sheng)產的(de)一種(zhong)新型(xing)機(ji)(ji)(ji)器。該機(ji)(ji)(ji)結構牢(lao)固可靠，由于在大(da)(da)軸、搖擺(bai)機(ji)(ji)(ji)構、拋(pao)光(guang)(guang)磨(mo)頭(tou)及機(ji)(ji)(ji)械手部件(jian)等關鍵部位均采(cai)用(yong)了進(jin)口的(de)高質量軸承，致使整機(ji)(ji)(ji)各(ge)部件(jian)運轉平穩、剛(gang)性好、搖擺(bai)位置精確(que)、噪(zao)音(yin)低。該機(ji)(ji)(ji)可對任何級別的(de)拋(pao)光(guang)(guang)磚(zhuan)、石(shi)材進(jin)行(xing)(xing)圓弧(hu)面或45度(du)斜面加(jia)工，使其成(cheng)為靚麗的(de)階梯磚(zhuan)和地腳線，生(sheng)產過程(cheng)(cheng)全自動，操(cao)作簡便，且加(jia)工成(cheng)本極(ji)低，用(yong)于裝(zhuang)飾工程(cheng)(cheng)效果極(ji)佳。現在市(shi)面上流行(xing)(xing)的(de)圓弧(hu)拋(pao)光(guang)(guang)機(ji)(ji)(ji)大(da)(da)多數都(dou)是(shi)14個(ge)磨(mo)頭(tou)的(de)，因為這種(zhong)型(xing)號效果最佳，速度(du)也快。瓷磚(zhuan)拋(pao)光(guang)(guang)機(ji)(ji)(ji)是(shi)辦瓷磚(zhuan)加(jia)工廠(chang)必不可少(shao)的(de)設(she)備。
瓷(ci)磚拋光機有(you)何特性：
市場研究表明拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)機操作的(de)關鍵是要(yao)設法得到的(de)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)速率,以便盡快除(chu)去磨(mo)光(guang)(guang)時產(chan)生的(de)損傷(shang)(shang)層(ceng)。同時也要(yao)使拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)損傷(shang)(shang)層(ceng)不會(hui)影(ying)響終(zhong)觀察(cha)到的(de)組織,即不會(hui)造成假組織。前者要(yao)求使用較(jiao)粗的(de)磨(mo)料,以保證有較(jiao)大(da)的(de)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)速率來(lai)去除(chu)磨(mo)光(guang)(guang)的(de)損傷(shang)(shang)層(ceng),但拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)損傷(shang)(shang)層(ceng)也較(jiao)深;后者要(yao)求使用細的(de)材料,使拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)損傷(shang)(shang)層(ceng)較(jiao)淺(qian),但拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)速率低(di)。
解(jie)決這個矛盾的(de)比(bi)較好的(de)辦(ban)法就是(shi)(shi)(shi)把(ba)拋(pao)光(guang)(guang)分為兩個階段進行(xing)。粗(cu)拋(pao)目的(de)是(shi)(shi)(shi)去除磨光(guang)(guang)損傷(shang)層(ceng)(ceng),這一階段應(ying)具有的(de)拋(pao)光(guang)(guang)速(su)率(lv),粗(cu)拋(pao)形成的(de)表層(ceng)(ceng)損傷(shang)是(shi)(shi)(shi)次(ci)要的(de)考慮,不過也應(ying)當盡可(ke)能小;其次(ci)是(shi)(shi)(shi)精(jing)拋(pao)(或(huo)稱終(zhong)拋(pao)),其目的(de)是(shi)(shi)(shi)去除粗(cu)拋(pao)產生的(de)表層(ceng)(ceng)損傷(shang),使拋(pao)光(guang)(guang)損傷(shang)減到比(bi)較小。
拋(pao)光(guang)(guang)機拋(pao)光(guang)(guang)時,試樣(yang)(yang)磨(mo)面(mian)(mian)與拋(pao)光(guang)(guang)盤應平(ping)行(xing)并均勻地輕(qing)壓在(zai)(zai)拋(pao)光(guang)(guang)盤上(shang),注意(yi)防(fang)止試樣(yang)(yang)飛出和因壓力太(tai)(tai)大(da)(da)而產生新磨(mo)痕。同(tong)時還應使試樣(yang)(yang)自轉并沿(yan)轉盤半(ban)徑方(fang)向(xiang)來(lai)回移動,以避(bi)免拋(pao)光(guang)(guang)織(zhi)物局部磨(mo)損太(tai)(tai)快在(zai)(zai)拋(pao)光(guang)(guang)過程中(zhong)要不斷添(tian)加(jia)微粉懸浮(fu)液,使拋(pao)光(guang)(guang)織(zhi)物保持一定(ding)濕度。濕度太(tai)(tai)大(da)(da)會(hui)減弱拋(pao)光(guang)(guang)的磨(mo)痕作用,使試樣(yang)(yang)中(zhong)硬相(xiang)(xiang)呈現浮(fu)凸(tu)和鋼中(zhong)非金屬(shu)夾雜物及(ji)鑄鐵中(zhong)石墨(mo)相(xiang)(xiang)產生“曳尾”現象;濕度太(tai)(tai)小,由(you)于(yu)摩擦生熱會(hui)使試樣(yang)(yang)升溫,潤滑(hua)作用減小,磨(mo)面(mian)(mian)失(shi)去光(guang)(guang)澤(ze),甚至出現黑斑,輕(qing)合(he)金則(ze)會(hui)拋(pao)傷(shang)表(biao)面(mian)(mian)。
為了達(da)到粗(cu)(cu)拋(pao)的(de)(de)目的(de)(de),要(yao)求轉(zhuan)盤(pan)轉(zhuan)速較低,比(bi)較好不要(yao)超過(guo)600r/min;拋(pao)光時(shi)間應當(dang)比(bi)去掉劃(hua)痕所需的(de)(de)時(shi)間長些(xie),因(yin)為還要(yao)去掉變形層。粗(cu)(cu)拋(pao)后(hou)磨面光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有(you)均勻細(xi)致的(de)(de)磨痕,有(you)待精拋(pao)消除。
精(jing)拋(pao)(pao)時轉盤速度可適當提高,拋(pao)(pao)光(guang)(guang)時間(jian)以拋(pao)(pao)掉粗拋(pao)(pao)的損傷層(ceng)為宜。精(jing)拋(pao)(pao)后(hou)磨(mo)面明亮如(ru)鏡,在(zai)(zai)顯(xian)微鏡明視(shi)場(chang)條件(jian)下(xia)看(kan)不(bu)(bu)到(dao)劃痕,但(dan)在(zai)(zai)相襯(chen)照明條件(jian)下(xia)則仍可見到(dao)磨(mo)痕。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)機(ji)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)質量的好壞嚴重影響試(shi)樣的組織結(jie)構,已(yi)逐步起有關的重視(shi)。近年來(lai),國內外在(zai)(zai)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)機(ji)的性能(neng)上(shang)作了大量的研究工作,研究出不(bu)(bu)少新機(ji)型(xing)、新一代的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)設備,正由原來(lai)的手動(dong)操作發(fa)展成為各種(zhong)各樣的半自動(dong)及全自動(dong)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)機(ji)。
上一條: 多功能瓷磚切割機操作安全手冊
下一條: 什么是瓷磚加工設備？
